在纳米电子电路的检测和成像领域，最近有了一项令人瞩目的新技术。来自相关研究团队，包括Qingdong Ou、Zhigao Dai、Huanyang Chen、Qiaoliang Bao等人，在编号为2504526的文章中展示了范德华通道透镜的强大功能。

范德华通道透镜就像是一个神奇的“超级眼睛”，它能够对埋藏在内部的电子电路进行多方向的超分辨率成像。传统的成像技术在面对纳米级别的电路时，往往难以清晰地捕捉到细节，而这种新型透镜却能突破限制，实现分辨率低于15纳米的成像。这意味着我们可以更清晰、更准确地观察纳米电子电路的结构和运行情况，对于纳米电子电路的无损检测和研究有着重要意义。它就好比给科研人员提供了一把精密的钥匙，帮助我们打开纳米电子世界的大门，为纳米电子技术的进一步发展奠定了基础。

 期刊

Advanced Material

标题

Natural van der Waals Canalization Lens for Non-Destructive Nanoelectronic Circuit Imaging and Inspection

作者

Qingdong Ou, Shuwen Xue, Weiliang Ma, Jiong Yang, Guangyuan Si, Lu Liu, Gang Zhong, Jingying Liu, Zongyuan Xie, Ying Xiao, Tian Sun, Ding Yuan, Kourosh Kalantar-Zadeh, Peining Li, Zhigao Dai, Huanyang Chen, Qiaoliang Bao

摘要

Super-Resolution Imaging

In article number 2504526, Qingdong Ou, Zhigao Dai, Huanyang Chen, Qiaoliang Bao, and colleagues demonstrate that van der Waals canalization lenses enable multi-directional super-resolution imaging of buried electronic circuits with sub-15 nm resolution.

原文链接

https://advanced.onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.70083

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