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本篇博文主要涉及半导体制造中一些基础知识点。如“晶圆清洗后为什么要马上干燥”，“芯片表面的二氧化硅为什么会变色”，“先进封装的TSV硅通孔技术是什么”，“晶圆为什么要留平边”，“什么是兆声波清洗”等等简略介绍，相关知识点将在评论区汇总，整理，更新。同时也会视具体情况对知识点进行单独的，详细，系统的博文 ...

本篇博文关于粉体制造中所涉及的机械设备使用经验。如“反应釜清洗”，“反应釜查漏”，“反应釜搅拌器选择”，“泵的选型”等等简略介绍，相关知识点将在评论区汇总，整理，更新。同时也会视具体情况对知识点进行单独的，详细，系统的博文介绍

本篇博文将更新化学合成实验室基础仪器的使用，操作以及保养，维护。如分析天平，移液枪，比重瓶，pH计，电导率仪，浊度计，粘度计，蠕动泵等等

CPS 圆盘离心法测量粒径的原理基于差示沉降法（Differential Sedimentation Method），结合斯托克斯定律（Stokes’ Law），通过颗粒在离心力场中的沉降行为计算粒径。 以 CPS DC24000 UHR 仪器为例：CPS圆盘离心式纳米颗粒粒度分析仪基于 差示沉淀法对颗粒粒度进行测量和分析 。如下图所示，样品被 注入到高速旋 ...

科学网—pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响 - 黄振鹏的博文 科学网—pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响-续 - 黄振鹏的博文 随着pH升高，氧化铈表面电荷减小，为什么与wafe之间的静电作用会增大呢 Q1. 在氧化铈分散液酸碱滴定过程，滴定曲线无法形成闭合循环内在原因？ 滴定 ...

科学网—pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响 - 黄振鹏的博文 全文回顾：该研究围绕化学机械抛光（CMP）中二氧化铈（CeO₂）与二氧化硅（SiO₂）的相互作用机制展开，重点探究了 CeO₂浆料 pH 值对 SiO₂去除率、表面形貌及摩擦特性的影响，验证了化学机械抛光过程中化学作用与机 ...

样品制备 ： 沉淀法 【采用草酸、 EDTA - 草酸 、氨水 - 草酸、NH₄HCO₃、尿素 - NH₄HCO₃、尿素 - 氨水、甲酸 - 肼、乙酸 - 肼等不同沉淀剂，在不同温度（30-80℃）和搅拌强度（500r/min）下制备 CeO₂前驱体，经洗涤、干燥后，在 300-1000℃煅烧得到 CeO₂粉末】； 溶胶 - 凝 ...

Chemical Engineering Journal 369 (2019) 18–25 3D 分级 CeO₂纳米球的合成机理主要基于 水热条件下的自组装过程 ，通过调控前驱体组成和反应参数，使不同形态的 CeO₂纳米单元（如颗粒、棒、小球）逐步聚集并形成 hierarchical 结构 1. PS 样品（纳米颗粒自组装 3D 分级球） 原料 ...

Langmuir 2005, 21, 9359-9364 研究背景 关键新兴纳米材料不仅利用了纳米颗粒的化学成分，还利用了纳米颗粒的尺寸、形状和表面依赖特性，在新的应用中具有显著的性能特征。这些纳米粒子比可见光的波长还小，在材料科学和生物学的广泛应用中发挥着重要作用为了将纳米颗粒的固有特性转化为不同的用途，需要一 ...

【全文内容】 本文通过 强制水解法 ，以 硫酸铈 和 硝酸铈 为前驱体制备了纳米氧化铈水溶胶，利用 HRTEM 、 XRD 、 DLS 等手段分析其 形貌 和 等电点（IEP） 。结果表明，颗粒呈 多晶立方结构 ，尺寸分别为 4.4 nm （硝酸铈前驱体）和 8.6 nm （硫酸铈前驱体）。在 KNO₃溶液中，氧化铈的 ...

研究背景 ：低浓度 CO₂（如工业尾气或大气中的 CO₂）的高效转化是实现碳中和的关键挑战。二氧化铈（CeO₂）因其独特的氧化还原性能成为理想光催化剂，但其催化活性依赖于高浓度且稳定的 Ce³⁺位点，而传统方法难以维持 Ce³⁺的稳定性。非晶态材料的结构灵活性为解决这一问题 ...