黄振鹏
pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响-续2
2025-6-10 21:48
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科学网—pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响 - 黄振鹏的博文

科学网—pH值对化学机械抛光过程中铈-二氧化硅相互作用的影响-续 - 黄振鹏的博文

随着pH升高,氧化铈表面电荷减小,为什么与wafe之间的静电作用会增大呢

Q1. 在氧化铈分散液酸碱滴定过程,滴定曲线无法形成闭合循环内在原因?

滴定循环无法闭合的核心原因是碱性条件下 Ce-O-Ce 化学键的形成,导致了羟基离子被永久固定为固体结构(不可逆消耗),再加酸时,H⁺仅能质子化表面未键合的羟基,无法破坏内部 Ce-O-Ce 键,导致溶液中 OH⁻离子总消耗量超过 H⁺消耗量,滴定循环无法闭合。

1. 理想滴定循环(曲线闭环)

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若 CeO₂表面羟基(-OH)的质子化 / 去质子化是完全可逆的,理论上可通过 “加酸(H⁺)→加碱(OH⁻)” 或 “加碱→加酸” 的循环,使表面电荷状态回到初始值(如 pH=6 时的中性状态),即酸碱滴定或碱酸滴定应形成闭合循环。但实际滴定过程中,酸碱滴定和碱酸滴定玩玩无法形成循环,即加入相同量的酸或碱无法使体系恢复到原始 pH 或电荷状态,表明过程中存在不可逆的化学变化,更具体地说是颗粒表面羟基

2. 实际滴定(无法形成闭环)

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一、表面羟基的两种反应模式CeO₂颗粒表面的羟基(-OH)在不同 pH 环境下表现出可逆质子化与不可逆去质子化两种行为】

酸性条件(pH < IEP)【质子化反应的可逆】:①反应式:Ce-OH+H+↔Ce-OH2+,②本质:羟基吸附 H⁺形成带正电的表面基团(Ce-OH₂⁺),仅电荷状态改变,羟基本身未被消耗,过程可逆。③滴定循环表现:加酸后 pH 下降,加碱后可通过中和 H⁺使表面恢复为 Ce-OH,形成闭合循环

碱性条件(pH > IEP)【不可逆去质子化与颗粒间化学键合】:①反应式:Ce-OH↔Ce-O-+H+②本质:羟基失去 H⁺形成带负电的 Ce-O⁻基团,同时会伴随颗粒间脱水缩合,形成新的化学键(如 Ce-O-Ce 共价键),而在酸性回滴时,加酸(H⁺)只能使未参与键合的 Ce-O⁻质子化(如团聚体表面位点),而团聚体内部的 Ce-O-Ce 键无法被 H⁺破坏,导致了部分羟基位点因被包裹在团聚体内而无法接触 H⁺,无法恢复为 Ce-OH,溶液中 H⁺仅用于中和表面电荷。③滴定循环表现:加碱后颗粒团聚,再加酸时需额外 OH⁻离子打破 Ce-O-Ce 键,才能使表面恢复为 Ce-OH,导致羟基消耗过量,循环无法闭合。

3. 羟基过量消耗的具体过程

1. pH 7–10.5 区间:颗粒团聚与羟基固定

去质子化引发团聚当 pH 超过 CeO₂的 IEP(~6.5),Ce-OH 去质子化生成 Ce-O⁻,颗粒表面带负电。

颗粒间桥接机制:每形成一个 Ce-O-Ce 键,需消耗1 个 OH⁻离子(来自去质子化过程),导致溶液中 OH⁻离子被化学固定,而非仅用于调节 pH。

2. pH > 11:前驱体离子脱离与进一步羟基消耗

硝酸根离子释放:CeO₂合成过程中残留的硝酸根离子(NO₃⁻)在强碱性条件下脱离表面,暴露更多活性位点,裸露的 Ce³+ 与 其他颗粒的 Ce-O⁻形成更多 Ce-O-Ce 键,导致 OH⁻消耗增至50 个 / 颗粒

4. 氧化铈(CeO₂)颗粒在酸碱滴定过程中的表面性质变化跟踪方法?

通过表面电荷分析化学组成表征颗粒分散行为监测等多维度来分析氧化铈(CeO₂)颗粒在酸碱滴定过程中的表面性质变化。

一、表面电荷特性 —1. Zeta 电位分析:在滴定过程中实时监测 pH 与 Zeta 电位的关系,确定等电点(IEP)及电荷反转点。验证 CeO₂的 IEP 是否因表面吸附(如 Cl⁻、NO₃⁻)发生偏移(如图 1a 中 pH=6 时 Zeta 电位负移),分析阴离子 / 阳离子表面活性剂对电荷中和的影响。

二. 酸碱滴定曲线与表面络合模型—记录滴定过程中 pH 与滴定剂体积的关系,结合表面络合模型(如恒电容模型、三层模型)拟合表面官能团的解离常数(pKa)。具体地,向 CeO₂悬浮液中逐滴加入 HCl 或 NaOH,同步记录 pH 变化,绘制 “pH - 滴定剂体积” 曲线。通过模型计算表面羟基密度(如 μmol/m²)及质子化常数(K₁、K₂)。从而可以量化不同类型羟基(自由羟基、桥联羟基)的贡献比例。检测表面吸附离子(如 Cl⁻)对羟基解离平衡的影响(如 pKa 偏移)。

三、颗粒分散性,形貌和粒径—通过高分辨率成像观察颗粒形貌、尺寸及团聚结构(区分酸性区的弱团聚体(颗粒间颈部连接)与碱性区的强团聚体(融合成大颗粒));在滴定过程中实时监测 CeO₂颗粒的平均粒径与 PDI,观察团聚 / 分散状态变化;同步测量粒径、Zeta 电位及分散稳定性(如浊度),适合动态跟踪滴定过程中的颗粒行为。

单一方法仅能揭示表面化学性质的某一侧面,需通过光谱分析(XPS/FTIR)确定官能团电化学手段(Zeta 电位)表征电荷显微技术(TEM/SEM)观察结构理论模拟(DFT/MD)解析机制的协同作用。例如:XPS+FTIR:确认羟基类型与键合状态;DLS+Zeta 电位:关联颗粒分散性与表面电荷

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