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超高热流芯片冷却新原理及关键技术

已有 472 次阅读 2026-1-26 09:22 |系统分类:科研笔记

超高热流密度芯片(通常指热流密度超过1千瓦/平方厘米)的冷却,是支撑人工智能、高性能计算等前沿技术发展的基础性难题-7。其解决思路不再是单一技术的改进,而是通过全新的原理和系统级方案,在极小的空间内实现前所未有的高效散热。

一、核心散热原理:打破传统瓶颈

传统的从芯片表面“外挂”散热器的思路已逼近物理极限。新的冷却原理专注于三个核心方向:

  1. 近源冷却与零传导热阻:这是最根本的思路。它将冷却液(水或特殊工质)的微米级通道直接嵌入芯片内部或贴近芯片背部,让冷却液在“热源出生地”直接带走热量,理论上无限趋近于“零传导热阻”-4-7。微软和台积电的相关技术都基于此原理-4-5

  2. 超高热导材料与热扩散:在热量被带走前,需要用导热能力极强的材料迅速将芯片局部“热点”的热量横向铺开,防止热量堆积。金刚石(导热率是铜的5倍)是理想选择,但它与芯片材料结合时的界面热阻和热应力是巨大挑战-3-8-9

  3. 原子级界面工程:热量在穿越不同材料界面时极易受阻。最新的突破是通过原子级平整的“薄膜”界面取代传统的粗糙“岛状”连接,使界面热阻降低三分之二,从根本上疏通热量传导的“堵点”-8-9

二、关键技术路线对比

基于以上原理,目前主流的高端技术路线如下表所示:

技术路线核心原理关键指标/特点主要挑战
嵌入式微流冷却在芯片基底刻蚀集成微通道,冷却液直达热源-7热阻可低至 0.036 K·cm²/W,已实现3000 W/cm²的冷却能力-7设计复杂,对制造工艺要求极高。
歧管-微射流复合结构(进阶设计)在嵌入式微通道上,增加“微射流”冲击和锯齿状通道,破坏热边界层-7在3000 W/cm²下,最大温升仅130°C,能效比(COP) 极高-7结构设计、加工和流道压力控制更复杂。
金刚石微通道基板用极高导热率的金刚石作为微通道基底,快速扩散并导出热量-3理论散热潜力巨大,可应对数百至上千W/cm²热流-3金刚石与芯片材料热膨胀系数不匹配,易导致界面开裂;成本高昂-3
液态金属微通道冷却用导热率是水65倍的镓铟锡合金等液态金属作为冷却液-6配合扩展微通道设计,热阻可降低36%-6液态金属易腐蚀、氧化,密封和系统可靠性要求高-6
先进界面与集成技术优化从芯片到散热器的每一层热界面材料(TIM)和连接工艺-2-4包括低温键合、纳米银烧结、新型TIM等,是支撑所有高效散热方案的基础-2-4需在高导热性、低热应力、长期可靠性间取得平衡。

注:这些技术路线并非互斥,例如“金刚石微通道基板 + 液态金属冷却 + 先进界面工程”的组合方案是当前重点研究方向。

三、面临的主要挑战与发展趋势

尽管原理清晰且进展迅速,但该领域仍面临艰巨挑战:

  • 制造与集成:将复杂的微流道结构与芯片制造工艺(CMOS或MEMS)深度融合,实现高良率、低成本的大规模生产-3-7

  • 系统可靠性:确保微流道在长期运行中无泄漏、无堵塞,液态金属等工质不腐蚀管路-6

  • 协同设计:未来的芯片设计必须将“散热结构”作为核心模块,在架构设计初期就进行“电-热协同优化”。

当前,芯片冷却技术正从“外挂式”向“嵌入式”、“单相”向“两相(相变)”、“均匀冷却”向“智能按需冷却” 演进-4。利用AI实时分析芯片温度图谱,动态调控冷却液流向来精准打击“热点”已成为现实趋势-5



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