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关于原子层沉积（ALD）的几个新资料
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推荐两个最新的很实用的关于Atomic layer deposition 技术及其应用的资料。
N. Pinna and M. Knez, eds., Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2011.
Progress and future directions for atomic layer deposition and ALD-based chemistry
再有就是我们组自己的一篇小文章。Nanoscale 邀请的 Feature article, 即将上网。可以在课题组主页上下载。
http://www3.ntu.edu.sg/home/fanhj/pub.html
http://www3.ntu.edu.sg/home/fanhj/pub.html
https://wap.sciencenet.cn/blog-41876-521422.html
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