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2021年日本局PCT专利申请的技术领域分布状况与竞争态势——半导体、材料、加工制造、电气、光学技术较强

已有 985 次阅读 2022-11-22 22:45 |系统分类:博客资讯

陈立新 张琳 黄颖:中美欧日韩五局专利报告3101.doc

武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖

微信号:chenlixinip5

附录2  2021PCT国际专利申请统计分析报告

附录2.4 主要专利局PCT专利申请在技术领域上的竞争态势

附录2.4.4 日本局PCT专利申请的技术领域分布状况与竞争态势

日本局最具优势的技术领域是:半导体零配件、有机高分子化合物、半导体制造、材料化学与纳米、成型加工作业、电气元件和结构部件、物理信号和控制、电池、发电和输变电、光学和摄影、电热与等离子体。在这些领域,日本局PCT专利申请数量占该领域专利总量的比例为49%26%

日本局的劣势领域包括:数据传输控制协议、数据传输控制程序、无线通信业务、数据识别、控制器和运算器CPU、数字信息传输、计算机接口、药物和家庭日用化学品、有机化学、医学治疗和护理、无线通信网络。在这些领域,日本局PCT专利申请数量占该领域专利总量的比例为1%10%

日本是老牌技术强国,其专利主要布局在半导体、材料、加工制造、电气、光学等传统技术方面,而在通信、互联网和计算机等新兴技术方面处于劣势。

 

                                               

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附图2.4.4-1  2021年日本局PCT专利申请在54个技术领域的占比

 

 

致谢

感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时,向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。

如需要中美欧日韩五局及PCT专利数据、专利报告,以及咨询相关专利问题请添加微信号。

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