博文
2021年东京电子株式会社的韩国局专利状况——重点布局半导体制造、材料化学与纳米、电气元件和结构部件技术
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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第五部分 2021年韩国发明专利统计分析报告
43 主要机构的韩国专利布局
43.24 东京电子株式会社的韩国专利状况
东京电子株式会社（TOKYO ELECTRON LIMITED）是一家日本机构，主要经营半导体制造设备。2021年，东京电子株式会社获得韩国局专利457项，比上一年增长了60%，是获得韩国局专利数量第24多的机构。
相对来讲，东京电子株式会社的专利优势领域是：半导体制造、电热与等离子体、材料化学与纳米、电气元件和结构部件、光电辐射测量与核物理。在这5个技术领域上，东京电子株式会社的专利份额相对较高，分别占韩国局同领域专利数量的6.2%至0.7%。
从绝对数量上来看，东京电子株式会社重点布局的技术领域是：半导体制造、材料化学与纳米、电气元件和结构部件、电热与等离子体、光电辐射测量与核物理。在这5个领域上其获得了数量较多的韩国局专利，为377至34项。
可见，东京电子株式会社的专利布局重点是半导体制造技术。
表43.24-1 2021年东京电子株式会社主要技术领域的专利分布
技术领域 | 专利数量 | 占比（%） | |
1 | 半导体制造 | 377 | 6.2% |
2 | 电热与等离子体 | 36 | 2.0% |
3 | 材料化学与纳米 | 79 | 1.1% |
4 | 电气元件和结构部件 | 62 | 1.0% |
5 | 光电辐射测量与核物理 | 34 | 0.7% |
6 | 光学和摄影 | 27 | 0.4% |
7 | 半导体元件 | 18 | 0.3% |
8 | 基本电子电路 | 3 | 0.3% |
9 | 物理测量 | 10 | 0.2% |
10 | 半导体零配件 | 2 | 0.2% |
11 | 物理信号和控制 | 8 | 0.1% |
12 | 图像处理 | 4 | 0.1% |
13 | 半导体组件与集成电路 | 4 | 0.1% |
14 | 材料测试 | 4 | 0.1% |
15 | 计算机体系架构 | 3 | 0.1% |
16 | 发电和输变电 | 4 | 0.1% |
17 | 一般机械和武器 | 4 | 0.1% |
18 | 分离和混合加工作业 | 5 | 0.1% |
19 | 成型加工作业 | 5 | 0.0% |
20 | 照明与制冷制热 | 2 | 0.0% |
图43.24-1 2021年东京电子株式会社在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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