█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第二部分 2021年美国发明专利统计分析报告
17 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争
17.14 有机高分子化合物领域的专利竞争态势
第14个技术领域是有机高分子化合物。2021年，美国专利商标局在该领域共授权专利6947项（增长率为-11%），占总授权量的2.1%，是专利数量第48多的领域。
2021年，美国在该领域获得专利权2593项，占该领域专利授权总量的33%。中国在该领域做出专利发明314项，获得专利权245项，流失专利发明69项。日本和韩国获得的专利权数量分别为1730和500项。
表17.14-1 2021年各国有机高分子化合物领域的在美专利发明和专利权数量
国家 和地区 | 发明 数量 | 专利权 数量 | 净流失 数量 | 专利 流失率 | 发明 份额 | 专利权 份额 | 份额 流失量 | |
1 | 美国 | 2544 | 2593 | -49 | -1.9% | 36.6% | 37.3% | -0.7% |
2 | 日本 | 1734 | 1730 | 4 | 0.2% | 25.0% | 24.9% | 0.1% |
3 | 韩国 | 502 | 500 | 2 | 0.4% | 7.2% | 7.2% | 0.0% |
4 | 中国 | 314 | 245 | 69 | 22.0% | 4.5% | 3.5% | 1.0% |
5 | 德国 | 439 | 480 | -41 | -9.3% | 6.3% | 6.9% | -0.6% |
6 | 法国 | 202 | 204 | -2 | -1.0% | 2.9% | 2.9% | 0.0% |
7 | 加拿大 | 107 | 59 | 48 | 44.9% | 1.5% | 0.8% | 0.7% |
8 | 英国 | 98 | 72 | 26 | 26.5% | 1.4% | 1.0% | 0.4% |
9 | 瑞士 | 84 | 146 | -62 | -73.8% | 1.2% | 2.1% | -0.9% |
10 | 荷兰 | 116 | 157 | -41 | -35.3% | 1.7% | 2.3% | -0.6% |
11 | 瑞典 | 49 | 28 | 21 | 42.9% | 0.7% | 0.4% | 0.3% |
12 | 以色列 | 49 | 46 | 3 | 6.1% | 0.7% | 0.7% | 0.0% |
13 | 意大利 | 115 | 88 | 27 | 23.5% | 1.7% | 1.3% | 0.4% |
14 | 印度 | 41 | 19 | 22 | 53.7% | 0.6% | 0.3% | 0.3% |
15 | 其他 | 553 | 580 | -27 | -4.9% | 8.0% | 8.3% | -0.4% |
小计 | 6947 | 6947 | 0 | 0% | 100% | 100% | 0% |
图17.14-1 2021年各国有机高分子化合物领域的在美专利发明和专利权数量对比
2021年，在有机高分子化合物领域上获得美国专利授权最多的机构是LG化学公司、3M创新有限公司、陶氏全球技术有限公司。中国专利最多的机构是工业技术研究院，获得16项专利。
表17.14-2 2021年有机高分子化合物领域在美专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 2021 | 2020 | |
1 | LG化学公司 | 韩国 | LG CHEM, LTD. | 217 | 255 |
2 | 3M创新有限公司 | 美国 | 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY | 130 | 137 |
3 | 陶氏全球技术有限公司 | 美国 | DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC | 126 | 143 |
4 | 埃克森美孚化学专利公司 | 美国 | EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC. | 105 | 89 |
5 | 巴斯夫股份公司 | 德国 | BASF SE | 103 | 136 |
6 | 信越化学工业株式会社 | 日本 | SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. | 82 | 116 |
7 | 富士胶片公司 | 日本 | FUJIFILM CORPORATION | 67 | 82 |
8 | 瑞翁株式会社 | 日本 | ZEON CORPORATION | 64 | 76 |
9 | 北欧化工公司 | 奥地利 | BOREALIS AG | 57 | 54 |
10 | 东丽工业株式会社 | 日本 | TORAY INDUSTRIES, INC. | 56 | 74 |
注：本表数据按照第一权利人进行统计。
图17.14-2 2021年有机高分子化合物领域在美专利授权前10机构
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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